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HF120真空离子渗碳(碳氮共渗)设备简介
6/30/2005
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一、设备特点:
1、加热室、过渡室、油淬室为立式结构(也可卧式)。
2、石墨碳棒加热,加热速度快,温度均匀,使用寿命长。
3、脉冲偏压源,提供高稳定的... |
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离子渗金属(渗碳)设备与原理
6/30/2005
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一、离子渗金属原理:
离子渗金属是在低真空炉体中,利用辉光放电即低温等离子体轰击的方法,使工件表面渗入金属元素。实现离子渗金属必须具备以下几个条件:
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PAMOCVD装置及技术介绍
6/30/2005
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一、概述
PAMOCVD为“等离子体增强金属有机物化学气相沉积”技术之简称,PAMOCVD装置可用于:
1、CVD TiN涂层,表面呈金黄色,对高速... |
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离子氮化技术介绍及应用
6/30/2005
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离子渗氮作为强化金属表面的一种化学热处理方法,广泛适用于铸铁、碳钢、合金钢、不锈钢及钛合金等。零件经离子渗氮处理后,可显著提高材料表面的硬度,使其具有高的耐磨性... |
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辉光离子渗氮工艺中渗氮层不均匀性的问题
6/30/2005
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在辉光离子渗氮工艺过程中,由于辉光放电的特性使零件产生温度不均匀(有时在同一零件上产生渗氮层不均匀)现象。产生这种现象原因很多,例如:零件的几何形状和辉光覆盖面... |
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活塞环的离子渗氮工艺取代镀铬工艺的探讨
6/30/2005
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一、前言:
随着汽车、摩托车工业的发展,对车用发动机的要求也越来高,在发动机的组成部件中,活塞环是一重要的零件。活塞环在高温、高压燃气介质中往复运动,与缸... |
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大功率脉冲电源与节能
6/30/2005
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一、引言:
我所是专业从事等离子体表面处理技术及设备研究与应用的研究所。多年来,我们在提高等离子体渗氮设备(辉光离子氮化设备)供电系统的使用性能以及拓宽离... |
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离子渗氮层的组织控制
6/26/2005
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离子渗氮最重要的特点之一是可以通过控制渗氮气氛的组成、气压、电参数、温度等因素来控制表面化合物层(俗称白亮层)的结构和扩散层组织,从而满足零件的服役条件和对性能... |
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脉冲电源等离子体氮化技术的特点
6/25/2005
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与直流等离子体氮化相比,脉冲电源使离子氮化工艺得到了进一步的发展,并在直流等离子体氮化技术基础上拓宽了应用范围。脉冲电源等离子体氮化技术具有如下一些特点:
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