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炉窑/热处理设备技术应用 投稿 发表文章
武汉市等离子体技术研究所
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· HF120真空离子渗碳(碳氮共渗)设备简介 6/30/2005
一、设备特点: 1、加热室、过渡室、油淬室为立式结构(也可卧式)。 2、石墨碳棒加热,加热速度快,温度均匀,使用寿命长。 3、脉冲偏压源,提供高稳定的...
· 离子渗金属(渗碳)设备与原理 6/30/2005
一、离子渗金属原理: 离子渗金属是在低真空炉体中,利用辉光放电即低温等离子体轰击的方法,使工件表面渗入金属元素。实现离子渗金属必须具备以下几个条件: ...
· PAMOCVD装置及技术介绍 6/30/2005
一、概述 PAMOCVD为“等离子体增强金属有机物化学气相沉积”技术之简称,PAMOCVD装置可用于: 1、CVD TiN涂层,表面呈金黄色,对高速...
· 离子氮化技术介绍及应用 6/30/2005
离子渗氮作为强化金属表面的一种化学热处理方法,广泛适用于铸铁、碳钢、合金钢、不锈钢及钛合金等。零件经离子渗氮处理后,可显著提高材料表面的硬度,使其具有高的耐磨性...
· 辉光离子渗氮工艺中渗氮层不均匀性的问题 6/30/2005
在辉光离子渗氮工艺过程中,由于辉光放电的特性使零件产生温度不均匀(有时在同一零件上产生渗氮层不均匀)现象。产生这种现象原因很多,例如:零件的几何形状和辉光覆盖面...
· 活塞环的离子渗氮工艺取代镀铬工艺的探讨 6/30/2005
一、前言: 随着汽车、摩托车工业的发展,对车用发动机的要求也越来高,在发动机的组成部件中,活塞环是一重要的零件。活塞环在高温、高压燃气介质中往复运动,与缸...
· 大功率脉冲电源与节能 6/30/2005
一、引言: 我所是专业从事等离子体表面处理技术及设备研究与应用的研究所。多年来,我们在提高等离子体渗氮设备(辉光离子氮化设备)供电系统的使用性能以及拓宽离...
· 离子渗氮层的组织控制 6/26/2005
离子渗氮最重要的特点之一是可以通过控制渗氮气氛的组成、气压、电参数、温度等因素来控制表面化合物层(俗称白亮层)的结构和扩散层组织,从而满足零件的服役条件和对性能...
· 脉冲电源等离子体氮化技术的特点 6/25/2005
与直流等离子体氮化相比,脉冲电源使离子氮化工艺得到了进一步的发展,并在直流等离子体氮化技术基础上拓宽了应用范围。脉冲电源等离子体氮化技术具有如下一些特点: ...
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