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激光打标机常用Q开关介绍
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半导体激光打标机, CO2激光打标机, 光纤激光打标机, ...
1.可饱和吸收体Q开关

这是属于被动Q开关.在共振腔内放可饱和吸收染料盒(或染料片)、色心晶体等(见图3-4).它们对腔内的激光透过率是光强的函数,在开始时,共振腔内的受激辐射强度低,它们对光辐射的吸收率大,即共振腔的Q值很低;当工作物质被充分泵浦而达到激光振荡阈值时,它们发生饱和吸收,透过率上升到接近 100%,共振腔的 Q值也随即突然升高到很高的数值。

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2.电光Q开关

在共振腔内放电光元件和偏振分析器(如果激光器工作物质产生的辐射是偏振的,可以不用放偏振分析器)(见图3-5).当给电光元件加上外电场时,会使通过的激光的偏振面发生旋转,由此可控制光束通过分析器的透过率.共振腔的Q值直接与分析器的透过率有关.现在最常用的电光元件是克尔盒和普克尔盒.

3.机械Q开关

用马达带动共振腔的一块反射镜高速旋转(见图3-6),当旋转的镜子转到与共振腔另一块反射镜精确平行的位置时,腔的Q值最高,在其它位置时腔的Q值都比较低.反射镜的转动必须与闪光灯的触发同步,使两块反射镜达到平行时,工作物质已得到充分的泵浦.通常使用Porro棱镜做转镜,其转轴和激光束轴线之间的小角度偏差并不影响共振腔的准直.这种Q开关的主要优点是重复性好,主要缺点是容易产生噪声。

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文章内容仅供参考 (投稿) (如果您是本文作者,请点击此处) (12/31/2008)
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