模具涂层术语

作者：IonBond

欢迎访问e展厅 展厅 5 模具相关产品展厅 模具CAD/CAM, 模具钢材, 模具抛光机, 模具保护器, 模具监视器, ... ADLC 无定形金刚石硬质合金材料含有大量的 SP3 而且具有所需的金刚石和石墨的优良性能。 批次 一个批次指能在同一炉，同一时间进行涂层的零件组 阴极 阴极是一个 PVD 术语，通常指阴极源或靶材，更严格地说指阴极，是靶材安装的极板，并在涂层工序中发生气化。 CVA 铝化化学气相沉积过程扩散铝合金到部件表面，提高抗高温能力，防腐和抗氧化性能。 CVD 化学气相沉积过程是由反应气体通过化学反应进行涂层沉积，在标准的 CVD 情况下，该反应在 800 — 1050 ℃的高温下进行。 工艺时间 涂层时间是一个完整的过程，从一批次装载到涂层、冷却和卸载。 微米 微米是百万分之一米 PACVD 离子活化 CVD 或离子加强 CVD ，这是 CVD 的低温（低于 200 ℃）的加工过程，在 PACVD 情况下，通过 RF 电源进行气体反应。 PECVD 离子加强 CVD PVD 物理气相沉积是在涂层设备炉膛，通过靶材的气化沉积涂层的物理过程。 源 源是 PVD 术语，它是一种装置，用来装夹靶材，同时包括触发器，磁体，壳体和冷却系统，源有时指阴极。 sp2 硬质合金原子类似于石墨 sp3 硬质合金原子类似于天然金刚石 基体 涂层是的基体材料 靶材 target 是 PVD 术语，指被气化的金属材料，靶材与源一起通常范指阴极或源。(end)

文章内容仅供参考 (投稿) (8/14/2008)