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PACVD 技术 |
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newmaker |
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离子加强化学气相沉积是在高度真空环境，温度低于 200 ℃的情况下，沉积极度光滑，粘着性能好的无定形金刚石硬质合金涂层。相对 PVD 工艺， PaCVD 工艺应用深镀电源，无需阴极靶材，同时工件在炉膛中无需旋转，该工艺为干净无污染，可靠，和多性能的涂层工艺。 PACVD 又叫 PECVD。
加工温度
PACVD 涂层的加工温度在 200 ℃以下，大多数材料都能被用来涂层。
典型的涂层零件
PACVD 可用于绝大多数基体材料，电导材料和绝缘材料，典型应用包括发动机货物机械零件、泵零件、医疗器件和装饰件。
典型的涂层类型
爱恩邦德 PACVD 过程沉积大量的 ADLC 涂层。这一设计运用于特殊的应用领域，包括高精密应用领域，低应力应用领域和陶器应用领域。
涂层极高硬度（ 10 — 40Gpa ），在结构组织上无定形并含有约 70% 的 SP3 bondings。
涂层厚度为 2~3 微米，典型的工艺时间大约 3.5 小时。
技术过程优势
·适合多种材料
·减少工艺时间，提高生产效率
·低工艺温度，尺寸变形小
·涂层厚度均匀，无论对几何形状简单还是复杂的零件
·工艺对环境无污染
·可对内孔进行涂层 
PACVD 加工过程
(end)
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| 文章内容仅供参考
(投稿)
(8/14/2008) |
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