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离子化学热处理 |
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作者:《先进制造工艺*优质低耗洁净热处理技术》 |
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1.离子渗氮
离子渗氮是目前工业上应用最广、最成熟的离子热处理工艺,其最大特点是:①渗层组织和相组成可以控制,通过调整工艺参数,可获得纯扩散层、单相化合物层等;②渗速较快,渗层脆性小、质量好;③可进行低温(400~500℃)离子渗氮,以及对奥氏体不锈钢无需预处理便可进行离子渗氮。目前,离于渗氮的技术关键是如何根据其特点,结合工件服役条件,合理选取工艺参数。(温度、电压、炉压、时间及工作气体),获得所需的最佳渗层,以期充分提高离子渗氮效能与成本之比。例如,精密零件,要求尺寸变形小,表面硬度高,同时要求耐磨、耐蚀的奥氏体不锈钢,则宜选低温离子渗氮。
目前该工艺的进展,主要是扩大应用范围,如工具、模具,钛合金和铝合金以及不锈钢的离子渗氮工艺的开发。
奥氏体不锈钢离子渗氮,可有效地提高其耐磨性能,但耐蚀性却下降。自80年代中期以来,不锈钢离子渗氮有了重大进展。奥氏体不锈钢离子渗氮,可获得不同的相组成。温度超过500℃,可形成由γ´、ε、CrN、γ和α相组成的复合渗层,硬度高(1400HV),层厚大于200μm,从而明显改善其耐磨、抗胶合性能,但由于渗层中有Cr的氮化物析出,导致基体中Cr的减少,使其耐蚀性变坏。试验发现,奥氏体不锈钢的渗层硬度、耐磨性和抗腐蚀性能随渗氮温度降低而增高。不同温度离子渗氮后的阳极极化曲线(NaCI的质量分数为3%),如图1所示,经500℃×10h渗氮,即能提高腐蚀电位,而450℃渗氛时,Cr的氮化物析出被抑制,而形成含有无特征的“S-相”单相层,比未处理的不锈钢有更宽的纯化电位,具有优良的耐腐蚀性能,而且硬度高(约1600HV),可获得同时改善耐磨和耐蚀的渗氮层,该工艺已在欧洲获得了工业应用。
2.离子N-C共渗
离子N-C共渗是从盐浴和气体N-C共渗发展起来的,其操作方法与离子渗氮基本相同,但工作气体成分不同,且冷却方式除在真空条件下缓慢冷却外,还可进行油淬或高压气淬。
工艺参数为温度560~600℃,时间1~4h。工作介质可用NH3+C3H3、 NH3+CH4、 NH3+C3H5OH(酒精)和NH3+CH3OHCOOH3;(丙酮)等。
离子N-C共渗时间短,效益高,可获得以ε单相或ε相为主的具有优良耐磨、抗胶合的化合物层,除适用于合金结构钢外,特别适宜于碳素钢和球墨铸铁及合金铸铁制件的处理。
离子N-C共渗的技术关键是化合物层中的ε相和Fe3C的控制。当化合物层中出现少量Fe3C时,化合物层最厚,耐磨性高,韧性好。但形成一定数量的Fe3C时,化合物层厚度明显下降,脆性增加,因此,应力求获得单一ε租或ε相为主的化合物层。
化合物层厚度和相组成的控制,主要通过调整工作气体成分和温度来实现。例如。碳素钢和合金钢在不同 C3H8含量的NH3+C3H8混合气中进行570℃×10h的离子N-C共渗后,化合物层相组成和层厚与C3H8含量的关系如图1所示。由图可知:①化合物展中ε相体积分数Vε均随C3H8增加而增加,当C3H8增加到某一临界量时,出现Fe3C,此时Vε达到最大使;若C3H8继续增加,Vε则逐渐下降。②化合物层中γ´相体积分数Vγ´随C3H8增加而减少,渗碳体Fe3C体积分数VC总是随C3H8增加而增加(当Fe3C形成之后)。③化合物层厚度δ化的变化与Vε一致,扩散层深度δ扩基本不变,但随材料含碳量和合金元素含量增加而减小;化合物层中出现Fe3C后,渗层厚度则随C3H8增加而减小。
3.离子渗碳
我国对离子渗碳工艺进行了大量的试验研究,但尚未实现生产应用。80年代末,德、法已将离子渗碳开始用于生产,目前,已成功地用于汽车工业,取得了良好效果。
主要工艺参数:温度850~980℃,总时间(渗碳+扩散)2~8h,冷却方式为直接油淬或高压气淬。渗碳介质用碳氢化合物(如CH4、C3H8等)、N2、H2或Ar。
离子渗碳的技术关键是渗层质量控制及设备设计。离子渗碳时,可通过调节碳通量和渗碳时间来控制工件表面的预定碳含量,而碳通量(j)是气体成分、气压、气体流量、离子电流密度(i)和渗碳温度的函数。在实际操作中,气体种类、气压和温度易保持恒定,气体流量也总用最小值,这样,碳通量就仅仅取决于电流密度,即j=f(i)。离子渗碳时,电流密度既可精确测定,又能非常可靠地控制。目前,德国已研制、生产了离子渗碳、渗氮专用的离子电流密度传感器,使离子渗碳的控制简单、精确和重视性好。在工业生产中,离子渗碳时可利用碳的扩散和传输的数学模型,采用电流密度传感器,由微机进行全过程的工艺控制,从而获得预定的表面碳含量、碳分布和渗层深度。表1为不同渗碳工艺的碳通量。4.离子热处理设备
离子热处理设备由离子发生器(电源)、真空炉体、测温测压装置、供气排气系统及其他配套部件组成,关键部分为电源和真空炉体。
(1)电源 生产中应用的电源主要有两种:直流电源和脉冲电源。
直流电源提供的电压、电流是近似平直或带有波动的直流电。主要技术指标:电压0~1000V连续可调。频率50Hz,灭弧装置为限流电阻或电子开关。直流电源结构简单,价格便宜,维修方便,使用寿命长,功率大。但灭弧可靠性不理想,处理温度与电压、电流、气压不能分开,工艺参数不能独立调节,尤其当功率密度较小时(<0.2W/cm2),不能保证渗层均匀,故直流电源的使用受到一定限制,为了克服上述缺点,开发了脉冲电源。
脉冲电源提供的电压、电流是具有一定周期的近似方波的脉冲。80年代,德、法、俄、美、英等国相继开展脉冲电源的研究和应用。目前,德、法已有系列产品,电压1000V,功率从50~300kW,频率800~1000Hz,最高可达10kHz(功率40kW以下)。80年代末,我国开始脉冲电源的研究与应用。铁道部科学研究院先后研制成晶闸管斩波脉冲电源(1990年),GTO斩波脉冲电源(1992年),和高频脉冲电源(1997年),三种脉冲电源工作时,都是频率(周期)T固定,而脉冲宽度t可调。α=t/T称为导通比。目前,已有系列产品,在生产中应用效果良好。主要技术指标见表1。
脉冲电源的主要优点是:①灭弧速度快(10~60μs),能有效地抑制空心阴极效应。对有小孔、沟槽的复杂工件和小模数齿轮可进行更有效的处理;②能独立调节工艺参数,增加工艺可调性,扩大应用范围,尤其适宜于离子N-C共渗和离子渗碳;③与直流电源相比,可节约电源30%左右。
(2)真空炉体 目前,国内外在工业生产中应用的炉体主要有四种类型:①水冷双层炉壁的真空容器,其形状有钟罩式和井式。国内产品的主要规格为:功率25~500kW,真空炉膛直径700~1700mm,高800~4000mm。该种炉体结构简单,可用组合件,易于改变炉体高度,可制造大型炉子,价格便宜,维修少,使用寿命长,但能耗大,炉内工件温度均匀性不易控制,对形状复杂,且要求渗层均匀、变形小的工件,难于进行有效处理。②带有对流或热辐射辅助加热装置的热炉壁真空炉体,其结构如图1所示。使用这种炉子,处理的工件温度均匀,工艺较易调整,工件升温、冷却快。对不同形状和壁厚的零件可进行有效处理。该种炉子适宜进行离子N-C共渗、离子多元共渗等。但结构较复杂,造价高,工艺成本较高,增加了维修量,难制造大型炉子。③带高压气淬装置的离子渗碳炉,如图2所示、④带整体油淬装置的离子渗碳炉,见图3。这后两种炉子,都是在真空渗碳炉的基础上,加装高额脉冲电源,由微机控制工艺过程。德国Ipsen公司,为了保证每炉处理的产品质量稳定,重视性好,渗碳时有高的碳传输量,采用离子电流密度传感器来控制离子渗碳工艺过程。它对工件表面碳含量、碳分布和渗层深度的控制,与现代气体渗碳(微机碳势控制)一样精确、可靠。
(end)
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(6/17/2004) |
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